NAVI™ Cluster System

  • Dimensions: (w)680mm x (d)1070mm x (h)1380mm
  • Application: 4 sided and 1 L/L
  • Wafer & Carrier: 8″Std
  • Vacuum Capacity: Base Vacuum <1Torr                                                                 Leak Rate <5mTorr/min

  • Robot Repeatability: R Axis 755mm ±0.05mm                                                                      Θ Axis Infinite Rot ±0.003˚                                                                  Z Axis 25mm or 35mm ±0.05mm

  • Two Step (Soft, Fast) Pumping & Purge Supported

  • Xfer Chamber: WaferPosition Sensor Mounted /                                                   Over Pressure Bypass Route /                                                            Vacuum Gause: Convectron Gauge /                                           Gate V/V, Blank, Viewport Selectable

  • Loadlock: Auto Door w / Door open switch /                                                 Wafer Slide out / Cassette Present sensing /                           Mapping w/ Cassette Elevation 

Chemical In-line Heater

  • Dimensions: (w)165mm x (d)540mm x (h)190mm
  • Application: Chemical ( H3PO4 / H2SO4 )
  • Temp Control: RT ~ 180℃

  • Temp. Control Accuracy: Set temp ± 1 ℃

  • 220VAC 2KW x 3ea Tungsten Halogen Lamp. 

  • Temp Measurement: K-Type T/C 

  • Interlock: Thermo Stat 85℃, Leak Sensor

  • Bath Material: Quartz

  • Heat Isolation: Ceramic Fiber

  • Capacity: Inlet (I.D 16Ø, O.D 20Ø)                                                                          Outlet (I.D 16Ø, O.D 20Ø)    

Epitaxy Chamber

LED PSS Etching Chamber